電子設(shè)備在進(jìn)行加工的過(guò)程中會(huì)因?yàn)槭种傅挠|摸流下指紋，而電子設(shè)備這類(lèi)產(chǎn)品在加工的過(guò)程中留下指紋或者是表面粘上灰塵則將會(huì)直接影響到產(chǎn)品的質(zhì)量問(wèn)題，因此在整個(gè)加工的過(guò)程中需要純水的清洗以保證產(chǎn)品的質(zhì)量，那對(duì)于電子設(shè)備清洗用的純水用哪種純水設(shè)備制取?

　　目前市場(chǎng)上的純水設(shè)備分為：超純水設(shè)備、去離子水設(shè)備、純化水設(shè)備、EDI超純水、實(shí)驗(yàn)室純水機(jī)、超純水儀、反滲透純水、除鹽水設(shè)備等，對(duì)于電子設(shè)備清洗用的純水可以采用超純水設(shè)備進(jìn)行制取。

　　超純水設(shè)備根據(jù)用戶(hù)的用水需求可進(jìn)行水處理工藝的定制，純水水質(zhì)電阻率最高可實(shí)現(xiàn)接近于18.3MΩ.cm，但對(duì)于電子產(chǎn)品的清洗純水的要求可低于18.3MΩ.cm。

　　設(shè)備主要采用的反滲透技術(shù)、蒸餾、去離子化或者是其他的水處理工藝，不同的工藝制取的純水水質(zhì)不同。

　　純水的制取也并不是越多越好，制取的純水需在一個(gè)小時(shí)內(nèi)用完，不能存放太長(zhǎng)的時(shí)間，否則水的電導(dǎo)率將會(huì)出現(xiàn)下降的情況，純水電阻率的下降跟時(shí)間是有一定的關(guān)系。

　　純水設(shè)備一般都是以每小時(shí)制取水質(zhì)為單位，設(shè)備的規(guī)模大小分為每小時(shí)0.25T的，大的則每小時(shí)1000T不等。慧聰源環(huán)保工程師可根據(jù)用戶(hù)的用水需求對(duì)純水設(shè)備的工藝進(jìn)行定制。